近日，有媒體報道稱，國產28nm光刻機即將制造出來，并且是浸潤式光刻機。

一時之間，網友們沸騰了，因為這個消息實在太震撼了，要知道目前光刻機已經是國產芯片產業鏈中，最短的短板了。

而美國針對中國的禁令，也是以光刻機為主，卡住14nm及以下的光刻機及所有先進設備。

(資料圖)

而浸潤式光刻機，雖然也屬于DUV光刻機的一種，經多重曝光之后，卻最高可以生產7nm的芯片，你說讓不讓人激動？讓不讓沸騰？

幾年前，中芯國際的梁孟松就表示，7nm芯片研發已經準備好，只等光刻機，如今假如有了28nm的光刻機，這一切不是迎刃而解了么？

可以說，有了這臺28nm的光刻機，那么美國的芯片禁令，都會因此而瓦解，因為再針對14nm工藝，可能都沒什么意義了。

當然，這則消息的真假未知，可能是真的，也可能是假的。

為何這么說？我們知道光刻機有三大件，分別是光源系統、物鏡系統、工作臺。

DUV光刻機的光源系統是一樣的，都是采用193nm的紫外線，這一塊，中國已經掌握了技術，因為90nm的光刻機，與28nm的光刻機，光源系統區別不是特別大。

工作臺這一塊，其實差別也不大，目前國內的華卓精科有雙工作臺技術，也被國產光刻機使用。

物鏡系統就差別大了，物鏡系統是指收集光線，使其具有可控的方向性，同時將這些光線，按照要求，投射到工作臺上。

浸潤式光刻機，要在晶圓上方加一層水，然后193nm的光線，經過水的折射后，變成等效134nm波長，所以物鏡系統與干式光刻機不一樣。

浸潤式光刻機的物鏡系統非常復雜，甚至可以說是光刻機中最昂貴最復雜的部件之一，涵蓋了光學、機械、計算機、電子學等多個學科領域最前沿。

而目前能夠制造浸潤式光刻機的廠商，就兩家，一家是ASML，一家是尼康。目前能夠制造浸潤式光刻機物鏡系統的，全球僅一家，那就是蔡司。

而ASML和尼康這兩家的浸潤式物鏡系統來源，均是蔡司。按照媒體的說法，浸潤式光刻機不僅要控制物鏡波像差，更要全面控制物鏡系統的偏振像差，全球僅有蔡司有這技術。

而蔡司與ASML關于物鏡系統是合作研發，雙方有協議的，蔡司不能將這些技術，提供給ASML不允許的任何第三方廠商，而尼康獲得這個技術是ASML許可的。

所以國產光刻機廠商，能不能掌握這個浸潤式光刻機的鏡鏡系統，很多網友是持懷疑態度的，覺得可能消息是假。

但現在已經是8月份了，離年底也就4個多月時間，那么就讓我們拭目以待吧，如果真的28nm光刻機制造出來，芯片禁令就不用怕了。